EUVテクノロジーは、半導体業界の設備投資の増加につながり、機器メーカーが最終的な勝者になりました。

中央通信社によると、TSMC、Intel、Samsungは、より小型で強力なプロセッサーを作成するために、紫外線（EUV）テクノロジーに投資しています。関連機器のコストが高く、3社、ASMLなどの半導体の資本支出が増加しました。設備工場は多くの恩恵を受けています。

従来の光源と比較して、EUVを使用するシステムはチップ回路をよりコンパクトにすることができますが、対応する製造コストも上昇しています。主に、EUVリソグラフィ装置の高価格が原因です。

ASMLによると、第3四半期の7つのEUVシステムの販売は7億3400万ユーロを占め、これはシステムあたり1億ユーロ以上に相当します。これには、半導体プロセス制御およびテスト機器の費用は含まれていません。その結果、鋳造メーカーの設備投資は傾向になりました。

TSMCが10月にパフォーマンスブリーフィングを開催したとき、今年の資本支出は140億から150億米ドルに達し、当初の目標であるほぼ40％を超え、台湾の1年間の資本支出の記録を樹立したと発表しました。インテルはその後、追加の3％を発表しました。今年の資本支出目標は160億米ドルで、会社設立以来最高の記録であり、2年前より36％高くなりました。

サムスンは先週、今年の半導体事業の設備投資が約200億ドルであることも発表しました。サムスンが発表した金額は昨年よりもわずかに少ないが、業界アナリストによると、今年のサムスンの投資メモリ生産量の大幅な削減は、次世代ファンドリーにより多くのリソースを投資することだという。

ファウンドリの資本的支出は大幅に増加していますが、それは半導体機器工場が多くの利益をもたらすことを意味します。 ASMLは、第3四半期に、1シーズンで23セットのEUVシステム注文を受け取り、最高の単一注文注文の記録を樹立したと述べました。半導体プロセス制御機器メーカーのKe Leiは、先週、会計年度の第1四半期の年間成長率が29％であることを発表しました。 EUV投資がパフォーマンスの成長の主要な要因であることを示します。

EUVの需要は来年より繁栄すると予想され、半導体機器工場の見通しは良好であると報告されています。